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本发明提供了一种石墨烯基传感器的制备方法,包括:在一衬底上依次形成下电极层、底部隔离层和石墨烯薄膜;将含氧等离子体或含氧带电基团注入到石墨烯薄膜内,使石墨烯薄膜转变为氧化石墨烯薄膜,氧化石墨烯薄膜作为敏感材料层;在氧化石墨烯薄膜表面依次形成...该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种石墨烯基传感器的制备方法,包括:在一衬底上依次形成下电极层、底部隔离层和石墨烯薄膜;将含氧等离子体或含氧带电基团注入到石墨烯薄膜内,使石墨烯薄膜转变为氧化石墨烯薄膜,氧化石墨烯薄膜作为敏感材料层;在氧化石墨烯薄膜表面依次形成...