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本发明公开一种离子注入设备和离子注入方法。本发明设计离子注入设备包括掩膜板，掩膜板设置有开口区，在离子掺杂工艺中，掩膜板设置于承载待掺杂基板的预定工位的上方，掩膜板的开口区与待掺杂基板的掺杂区对齐，使得离子通过开口区注入掺杂区。基于此，本发...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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