专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
东丽株式会社
>
半导体装置用粘结剂组合物及使用它的覆盖层薄膜、粘结剂片材、覆铜聚酰亚胺膜制造方法及图纸
>技术资料下载
下载半导体装置用粘结剂组合物及使用它的覆盖层薄膜、粘结剂片材、覆铜聚酰亚胺膜的技术资料
文档序号:1654585
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种半导体装置用粘结剂组合物,其包含环氧树脂、苯氧树脂、固化剂,其环氧树脂的一部分或全部具有从下述物质中选择的至少一种环氧树脂:(a)二聚酸改性环氧树脂,(b)环氧当量为2×10↑[3]~6×10↑[3]的含磷环氧树脂。该粘结剂组...
该专利属于东丽株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东丽株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。