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本发明提供一种镭射修复方法,通过在镭射隔断形成的断口处沉积绝缘层,从而将镭射隔断后可能显露出来的线路通过所述绝缘层与外界进行隔开,在完成所述液晶显示面板的镭射修复后的其它后续制成过程中,使镭射隔断后显露出来的所述线路不至于被腐蚀。并且,通过...该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种镭射修复方法,通过在镭射隔断形成的断口处沉积绝缘层,从而将镭射隔断后可能显露出来的线路通过所述绝缘层与外界进行隔开,在完成所述液晶显示面板的镭射修复后的其它后续制成过程中,使镭射隔断后显露出来的所述线路不至于被腐蚀。并且,通过...