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本发明公开了一种蒸发源和蒸镀装置，该蒸发源包括：坩埚本体和坩埚上盖，坩埚本体上与坩埚上盖接触的表面为第一表面，坩埚上盖上与第一表面相接触的表面为第二表面，第一表面和第二表面中的一者上设置有凸结构，另一者上对应凸结构的位置设置有与凸结构相对应...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司授权不得商用。