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本发明公开了一种抛光低介电材料的抛光液，其含有二氧化硅和水，其特征在于还含有混合缓蚀剂。本发明的抛光液可增强对Ｃｕ细线的保护，显著减少锯齿、凹陷、磨蚀和划痕等缺陷，改善抛光芯片的电性能。...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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