温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种抛光组合物，它包含平均初级粒度为２００纳米或更小的磨料、氧化剂、ｐＫ１为２或更小的酸和／或它的盐、和水，其中抛光组合物的酸值为２０～０．２毫克ＫＯＨ／克；一种减少基片上微小擦痕的方法，它包括使用上述的抛光组合物抛光欲被抛光的基片；以及一...
该专利属于花王株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过花王株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。