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一种化学机械抛光液，其特征在于：以球形纳米介孔粉体为磨料，按重量百分比计，其成份包括３～３０份球形纳米介孔粉体为磨料，０．０１～１２份分散稳定剂，０．０１～１２份表面处理剂，同时加入ＰＨ调节剂至ＰＨ值为８．５～１２．５，余量的高纯去离子水。...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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