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一种用于硬盘基片的抛光液，由磨料、氧化剂、ｐＨ值调节剂、螯合剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料１０～５０％；氧化剂０．０１～１０％；ｐＨ值调节剂１～６％；螯合剂０．０１～１％；去离子水为余量；抛光液ｐＨ值范围为１１～１２，粒...
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