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本发明公开了一种用于抛光低介电材料的抛光液，该抛光液包括掺铝二氧化硅磨料和水，其特征在于：还包括含铵根离子或季铵类的小分子活性物质。本发明的抛光液对低介电材料ＣＤＯ以及ＴＥＯＳ、ＳｉＯＮ等材料的抛光具有促进作用，但对钽、铜的抛光速率无明显的...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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