下载晶硅电池片的制造方法的技术资料

文档序号:16503562

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本发明涉及一种晶硅电池片的制造方法,其中,所述的制造方法包括管式PECVD镀膜步骤,所述的管式PECVD镀膜步骤包括在管式PECVD中进行N2O处理和至少两次的氮化硅层镀膜,在第一次氮化硅层镀膜之后进行所述的N2O处理,所述的晶硅电池片在烧...
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