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本发明提供了一种适用于多晶太阳电池三层减反射膜的镀膜工艺。它解决了现有制备工艺比较复杂，耗电量大，制备的成本比较高，并且单层氮化硅减反射膜硅太阳能电池的反射率还是很高，返工率也较高等技术问题。本适用于多晶太阳电池三层减反射膜的镀膜工艺，包括...
该专利属于浙江光隆能源科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江光隆能源科技股份有限公司授权不得商用。

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