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本发明公布了一种阵列基板的制作方法,包括:在基板上沉积第一金属层,利用第一光罩图案化所述第一金属层形成相互绝缘的栅极与公共电极;在所述基板上沉积栅极绝缘层,所述栅极绝缘层覆盖所述栅极与所述公共电极;在所述栅极绝缘层上依次沉积半导体层和第二金...该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明公布了一种阵列基板的制作方法,包括:在基板上沉积第一金属层,利用第一光罩图案化所述第一金属层形成相互绝缘的栅极与公共电极;在所述基板上沉积栅极绝缘层,所述栅极绝缘层覆盖所述栅极与所述公共电极;在所述栅极绝缘层上依次沉积半导体层和第二金...