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本实用新型涉及化工反应设备技术领域，尤其是一种化学气相沉积陶瓷保护膜反应装置，包括CH4储存罐、H2储存罐、蒸发器、CVD反应室和真空抽气泵,CH4储存罐和H2储存罐上均连接有支管，支管上且位于阀门的上方均设有流量计，支管另一端均连接有主管...
该专利属于张忠帆所有，仅供学习研究参考，未经过张忠帆授权不得商用。

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