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本发明公开了一种集成电路基板清洗设备，包括清洗腔、摆臂装置和易燃液体供液系统，清洗腔内设有载盘和与载盘垂直固定的支撑轴，支撑轴由驱动装置驱动旋转；摆臂装置包括底座、液体管，液体管包括竖直管体和水平管体，竖直管体垂直固定在底座上并与易燃液体供...
该专利属于盛美半导体设备(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)有限公司授权不得商用。

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