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本发明提供一种用于优化标准单元的可制造性的方法和系统，所述方法包括：为标准单元创建随机的背景环境；将通孔插入到所述标准单元中；以及对插入通孔后的标准单元进行光刻验证。本发明所提供的用于优化标准单元的可制造性的方法和系统可以用于及早检测和解决...该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。