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本发明公开了一种无应力抛光装置,包括晶圆夹、辅助喷头装置和主喷头装置。晶圆夹夹持有晶圆,晶圆夹可水平移动并旋转;辅喷头装置包括辅喷头和辅喷头上的多个喷嘴,辅喷头位于晶圆夹下方,喷嘴面向晶圆的外边缘及晶圆夹喷洒电解液,辅喷头在水平方向上倾斜放...该专利属于盛美半导体设备(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过盛美半导体设备(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种无应力抛光装置,包括晶圆夹、辅助喷头装置和主喷头装置。晶圆夹夹持有晶圆,晶圆夹可水平移动并旋转;辅喷头装置包括辅喷头和辅喷头上的多个喷嘴,辅喷头位于晶圆夹下方,喷嘴面向晶圆的外边缘及晶圆夹喷洒电解液,辅喷头在水平方向上倾斜放...