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本实用新型涉及硅片生产设备技术领域，尤其是涉及一种硅片去水膜设备，包括设置在机架上的水槽，所述水槽内设有用于输送硅片的输送辊，所述机架上设有板体，所述板体位于所述水槽上方，所述板体靠近输送辊的一侧开设有进水道，所述板体内设有集水腔，所述集水...
该专利属于常州亿晶光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州亿晶光电科技有限公司授权不得商用。

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