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本发明提供一种图案化薄膜的真空蒸镀装置，包括真空室、待镀基底、蒸发源条带、激光源及栅网，该蒸发源条带包括蒸发材料及碳纳米管膜结构，该碳纳米管膜结构为一载体，该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面。该栅网包括相对的第一表面及第二表面，该第一表面...
该专利属于清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司授权不得商用。

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