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一种GaAs HBT器件结构制造技术
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文档序号:16399244
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本实用新型涉及半导体制造领域,公开了一种GaAs HBT器件结构,由下至上依次包括:GaAs衬底、N‑GaAs集电区层、N‑InGaP集电区层、空间隔离层、P‑GaAs基区层、N‑InGaP发射区层、N‑GaAs发射区层、N...
该专利属于成都海威华芯科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都海威华芯科技有限公司授权不得商用。
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