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光学介质薄膜、Al2O3、含硅薄膜、激光器腔面膜的制备方法技术
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文档序号:16396352
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一种光学介质薄膜、Al2O3、含硅薄膜、激光器腔面膜的制备方法,其中,光学介质薄膜的制备方法包括:将衬底放置在电子束蒸发设备的腔室中,抽真空;采用离化的氩气和氮气在高能电场下轰击衬底表面;高能电子分批次轰击光学介质的靶材,对光学介质粒子分步...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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