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本发明提供一种在靶(Tg)的母线方向全长上均匀侵蚀靶的磁控管溅射装置用旋转式阴极单元(RC)。设置在圆筒状的靶内，产生从靶表面泄漏的磁场且通过磁场的垂直分量为零的位置的线沿靶的母线延伸并封闭成跑道形的磁铁单元(Mu)分为：在靶的母线方向两端...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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