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本实用新型涉及激光曝光技术，具体涉及一种双面直写式曝光机系统。现有技术中，激光直写曝光机通过一个扫描轴进行逐行扫描，同时有一个步进平台与之配合，这种方式的工作效率有待提升。本实用新型将多组光学系统以及光源系统并列固定悬挂在龙门结构上，并且光...
该专利属于俞庆平所有，仅供学习研究参考，未经过俞庆平授权不得商用。

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