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制造金属氧化物薄片的方法技术
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文档序号:1636805
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本发明涉及一种制备包含至少一种电介质层的平行平面结构(片状体或者薄片)的方法,所述的电介质层由选自元素周期表第3-15族的一种或多种金属的氧化物组成,该方法包括:(a)任选地将剥离材料层施用到基底上,(b)将含有一种或多种期望的金属氧化物的...
该专利属于西巴控股有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西巴控股有限公司授权不得商用。
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