制造金属氧化物薄片的方法技术

本发明专利技术涉及一种制备包含至少一种电介质层的平行平面结构（片状体或者薄片）的方法，所述的电介质层由选自元素周期表第３－１５族的一种或多种金属的氧化物组成，该方法包括：（ａ）任选地将剥离材料层施用到基底上，（ｂ）将含有一种或多种期望的金属氧化物的一种或多种前体的组合物施用到所述的剥离层上，或者直接施用到不带有剥离材料层的基底上，（ｃ）使该一种或多种期望的金属氧化物的一种或多种前体经受微波辐射来在基底上或者在剥离材料层上形成金属氧化物层；和（ｄ）从基底上分离所形成的金属氧化物层来作为平行平面结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】 本专利技术涉及一种制备包含至少一种电介质层的平行平面结构(片状体或者薄片)的方法，所述的电介质层由选自元素周期表第3-15族 的 一种或多种金属的氧化物组成，通过使期望的金属氧化物的前体经 受微波辐射来在基底上形成金属氧化物层，并从基底上分离所形成的 金属氧化物层来作为平行平面结构。通过相应的盐(即，硫酸盐或卣化物)的液相分解(水解)来沉积金属 氧化物层的方法本身是已知的，并且已经用于形成光泽(luster)颜料或 者珠光(pearlescent)颜料，其具有半透明的、非反射性云母核材料。但 是，这样的方法(描述于例如US-B-3087827和US-B-5733371中)被认 为不适于在该方法所需的高酸性(pH小于4)的水溶液中形成具有反射 性金属核的效应颜料。US-B-6369147公开了一种方法，其通过选择某来解决上述问题。、 ''、，、，，一 、使用微波能量来在用于LED装置的玻璃和氧化铟锡涂覆的玻璃 板上沉积金属氧化物膜是已知的并公开在大量的期刊论文中例如E. Vigil, L. Saadoun， Thin Solid Films 2000， 365,第12-18页和E. V本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备包含至少一种电介质层的平行平面结构的方法，所述的电介质层由选自元素周期表第３－１５族的一种或多种金属的氧化物组成，该方法包括：　（ａ）任选地将剥离材料层施用到基底上，　（ｂ）将含有一种或多种期望的金属氧化物的一种或多种前 体的组合物施用到所述的剥离层上，或者直接施用到不带有剥离材料层的基底上，　（ｃ）使该一种或多种期望的金属氧化物的一种或多种前体经受微波辐射来在基底上或者在剥离材料层上形成金属氧化物层；和　（ｄ）从基底上分离所形成的金属氧化物层来 作为平行平面结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：R熊，P巴贾德，
申请(专利权)人：西巴控股有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]