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本发明提供了一种实时监控刻蚀腔体金属杂质含量的系统及方法，通过在刻蚀腔体内安装光谱收集器，收集反应物和生成物的光谱强度，并通过光谱分析仪将其转换为测试光谱曲线，并与预先得到的基准光谱曲线进行对比，得到金属杂质是否超标的结果，再通过工艺控制电...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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