专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
捷客斯金属株式会社
>
氧化物烧结体、氧化物溅射靶和氧化物薄膜制造技术
>技术资料下载
下载氧化物烧结体、氧化物溅射靶和氧化物薄膜的技术资料
文档序号:16305092
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种烧结体,其特征在于,包含锌(Zn)、镓(Ga)、硅(Si)和氧(O),Zn含量按ZnO换算为5~60摩尔%,Ga含量按Ga2O3换算为8.5~90摩尔%,Si含量按SiO2换算为0~45摩尔%,在将按ZnO换算的Zn含量设为A(摩尔%)...
该专利属于捷客斯金属株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过捷客斯金属株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。