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本发明公开了一种三维微结构的刻蚀方法，该方法包括如下步骤：将抑制刻蚀的微纳米粒子的悬浮液涂覆在基片表面上，干燥处理，使微纳米粒子沉积在基片表面上，再将基片用刻蚀液进行刻蚀，得到表面具有三维凹陷微结构的基片。使用该方法制作的基片表面具有若干个...
该专利属于武汉纺织大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉纺织大学授权不得商用。

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