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本发明提供一种离子注入方法及离子注入装置，用于更加准确地评价离子束的注入角度分布。离子注入方法中，向以满足规定的面沟道效应条件的方式配置的晶片照射离子束，测量射束照射后的晶片表面的规定特性，并使用特性的测量结果评价离子束的注入角度分布。晶片...
该专利属于住友重机械离子技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过住友重机械离子技术有限公司授权不得商用。

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