下载晶体管及其制造方法的技术资料

文档序号:16286518

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本发明提供一种晶体管及其制造方法,所述晶体管的制造方法,包括:在半导体基底上形成银层;在所述银层上形成至少一层具有类石墨烯结构的硅层;对与所述硅层相接触的银层表面进行氧化,形成位于硅层和银层之间的氧化银层,以形成由所述半导体基底、银层、氧化...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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