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本发明公开了一种TiN?Ag纳米复合涂层及其制备方法与应用。它是由磁控共溅射沉积得到的复合薄膜，溅射过程中溅射过程中保持一定的基底温度，获得的厚度在0.5um~1um之间。通过实验调节制备过程的基底负偏压，得到的TiN?Ag纳米复合涂层相比...
该专利属于天津师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津师范大学授权不得商用。

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