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本发明实施例提供了一种PSS图形化衬底刻蚀方法，所述方法包括：对衬底进行主刻蚀；其中，所述主刻蚀包括第一步刻蚀和第二步刻蚀；以第一工艺气压、第一刻蚀气体流量、第一上电极射频功率、以及第一下电极射频功率，对衬底进行第一步刻蚀；判断光刻胶是否开...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。