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本发明涉及一种基于横向结构发光二极管,包括:SOI衬底;Ge外延层,设置于SOI衬底的上表面;GeSn层,设置于Ge外延层的上表面的中间位置处;N型Ge区域,由Ge外延层掺杂形成,位于GeSn层一侧;P型Ge区域,由Ge外延层掺杂形成,位于...该专利属于厦门科锐捷半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门科锐捷半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种基于横向结构发光二极管,包括:SOI衬底;Ge外延层,设置于SOI衬底的上表面;GeSn层,设置于Ge外延层的上表面的中间位置处;N型Ge区域,由Ge外延层掺杂形成,位于GeSn层一侧;P型Ge区域,由Ge外延层掺杂形成,位于...