下载基于AlInAsSb体材料作倍增区的雪崩光电二极管及其制备方法的技术资料

文档序号:16218311

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本发明提供了一种基于AlInAsSb体材料作倍增区的雪崩光电二极管,包括:衬底;缓冲层,外延于衬底之上;N型欧姆接触层,外延于缓冲层之上且横截面为“凸”的形状,其下半部分与衬底的形状一致,其上半部分为圆柱状;雪崩倍增层,外延于N型欧姆接触层...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。

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