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本发明提供一种导电图形的制作方法、导电图形及显示基板。制作方法包括：在衬底上形成导电层；在所述导电层上形成保护层的图形；以所述保护层的图形为掩膜，对所述导电层进行等离子体轰击刻蚀，形成导电过渡图形；以所述保护层的图形为掩膜，对所述导电过渡图...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司授权不得商用。