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本发明公开一种掩膜版、过孔的制作方法及显示基板的制作方法,涉及显示基板制作技术领域,防止形成的过孔远离光刻胶的一侧残留有薄膜的材料。所述掩膜版包括板体和呈环状的半色调片,板体上开设有透光孔,透光孔包括位于透光孔的中部、且与待制作的过孔对应的...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种掩膜版、过孔的制作方法及显示基板的制作方法,涉及显示基板制作技术领域,防止形成的过孔远离光刻胶的一侧残留有薄膜的材料。所述掩膜版包括板体和呈环状的半色调片,板体上开设有透光孔,透光孔包括位于透光孔的中部、且与待制作的过孔对应的...