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本发明提出一种在氧化硅湿法刻蚀中降低硅损伤的方法，包括下列步骤：将过量氮气通入氢氟酸溶液中，使得其中的氧气析出，从而降低氧含量；将硅片浸入所述氢氟酸溶液中进行清洗处理后取出；将所述硅片进行水洗干燥处理。本发明提出的在氧化硅湿法刻蚀中降低硅损...
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