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本发明公开一种阵列基板的制作方法，包括：在基板上形成栅极；在基板的朝向栅极的一侧形成栅极绝缘层，栅极绝缘层覆盖栅极；在栅极绝缘层的远离栅极的一侧依次沉积铟镓锌锡氧化物层和铟镓锌氧化物层；通过第一黄光制程图案化铟镓锌氧化物层和铟镓锌锡氧化物层...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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