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本发明涉及使用等离子体和蒸气处理的组合对AL2O3进行原子层蚀刻。一种用于在衬底上执行原子层蚀刻(ALE)的方法，其包括以下方法操作：在衬底的表面上执行表面改性操作，所述表面改性操作配置为将所述衬底表面的至少一个单层转化为改性层；在衬底表面...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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