温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种等离子体处理装置，包括一反应腔，所述反应腔内设置一上电极和一下电极，一供电装置设置于所述下电极下方，将射频功率施加到所述下电极上，所述下电极下方设置管道和电线，所述供电装置包括空心的射频输送管道，所述管道和电线设置于所述空心...
该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。