温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及纳米技术领域，具体公布一种纳米线阵列的雕刻方法。这种方法包括：1)制作纳米线；2)在所述纳米线表面进行多层光刻胶的涂覆处理，形成NAs@PR基质，用紫外光曝光NAs@PR基质，最后将NAs@PR基质浸没在刻蚀溶液中。通过本雕刻方法...
该专利属于南方科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过南方科技大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。