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一种光刻设备在图案化装置(MA)与图案化装置遮蔽刀片(REB‑X,Y)之间注入气体，以帮助保护图案化装置免受污染。可以通过布置在图案化装置的至少一侧的一个或多个气体供应喷嘴(200)，将气体注入到在图案化装置与图案化装置刀片之间限定的空间中...
该专利属于ASML控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML控股股份有限公司授权不得商用。

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