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用于对大面积的基板覆层的CVD或PVD反应器制造技术
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下载用于对大面积的基板覆层的CVD或PVD反应器的技术资料
文档序号:16110730
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本发明涉及一种CVD或PVD覆层装置,具有壳体(1、2)和固定在壳体(1、2)上的具有进气机构(7)的组件(23),所述进气机构具有具备排气口(8)的、在排气平面内延伸的排气面(7’),所述组件(23)通过固定件(13、14)固定在壳体(1...
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有,仅供学习研究参考,未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。
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