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本发明涉及真空磁控镀膜技术领域，公开一种靶材余量测量装置，该靶材余量测量装置包括：主体结构，设有沿第一方向排列的多个测量轨道；每个测量轨道沿第二方向延伸，第二方向垂直于第一方向；多个顶针，与多个测量轨道一一对应；每个顶针沿第二方向延伸，且第...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司授权不得商用。