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本发明涉及一种光刻的显影辅助方法及其设备，所述方法包括：获取基板存在光刻线宽异常的区域及所述区域的线宽偏离目标线宽的数值；将非接触式加热装置移动至基板的所述区域，根据所述数值设置加热温度和加热时间对所述基板进行局部加热，以对基板上的光刻胶的...
该专利属于昆山国显光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山国显光电有限公司授权不得商用。

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