下载一种均流装置及反应腔室的技术资料

文档序号:16075713

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本发明提供一种均流装置,包括射频盖和喷淋盘,所述射频盖包括固定连接于一体的上下两部分,其上部为圆盘状的第一本体,其下部为环状的第一连接部,所述第一连接部的外径小于所述第一本体的直径,所述喷淋盘包括固定连接于一体的上下两部分,其上部为环形的第...
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