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本发明公开了可交联高介电低损耗聚合物绝缘材料的合成，交联制膜方法，以及其用于场效应晶体管绝缘层的制备方法；该聚合物绝缘材料的结构通式为：...
该专利属于上海交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学授权不得商用。

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