温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及陶瓷部件的清洗工艺领域，具体是一种温和的中低温去除精密陶瓷部件内部杂质原子的方法。本发明的方法不但可以降低部件清洗后化学试剂残留的风险，而且可以规避高温条件下部件表层釉质的损伤和内部结构的变化，在半导体、TFT等高精端工业生产设备...
该专利属于上海申和热磁电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海申和热磁电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。