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本实用新型揭示一种气体喷头以及等离子体处理设备。所述气体喷头具有一中心，所述气体喷头包括至少两个相对所述中心对称设置且互不连通的喷淋区；其中，每个所述喷淋区内设有多个喷嘴，且每个所述喷淋区还包括：中心子喷淋区，靠近所述中心设置；以及边缘子喷...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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