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本发明涉及用于去除含有背部晶圆金属化层的光刻胶剥离液，包括有机醇胺、极性有机溶剂、腐蚀抑制剂、有机强还原剂、表面活性剂，本发明所述用于去除含有背部晶圆金属化层的光刻胶剥离液不含有水、氟化物、氧化剂、研磨颗粒。同时，本发明中所含有的有机强还原...
该专利属于昆山欣谷微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山欣谷微电子材料有限公司授权不得商用。

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